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高性能CCP等离子刻蚀机采购国际招标公告(2)

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****受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标，于2024-01-02在中国国际招标网公告。本次招标采用传统招标方式，现邀请合格投标人参加投标。1、招标条件项目概况:上海临港化合物半导体4吋及6吋量产线建设项目资金到位或资金来源落实情况:项目资金已落实项目已具备招标条件的说明:已具备2、招标内容招标项目编号:XXXXX057招标项目名称:****性能CCP等离子刻蚀机采购项目实施地点:中国上海市招标产品列表(主要设备):序号产品名称数量简要技术规格备注1 ****性能CCP等离子刻蚀机 1台 1）产品尺寸Wafer size: 6inch2）产品材料Wafer material: 二氧化硅(SiO2)，氮化硅(SiN)3）工作原理Working principle: 干法等离子刻蚀机详见第八章“技术规格”3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:（1）投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2）如是代理商投标的话，投标人须获得投标货物的制造商出具的针对本项目设备的制造商授权书或者能证明投标人与制造商之间合法代理关系的证明；（3）投标人提...

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